Ø4.0 Implants-Regular Connection

描述

• 8° Morse Taper →分散咬合力，防止螺絲鬆脫
• 45° Switch Table→避免應力集中，減少骨吸收
• 內六角→完美定位
• 外徑錐形植體→適用於上顎竇增高術
• Ion-Ti+S.L.→表面處理加速骨整合 (註)
• 螺紋間距→螺距短，螺紋深，直至根尖0.5mm處仍具有設計良好的螺紋
• 自攻牙設計→有較佳的初級穩定與有效掌握植體植入角度
• 可在多數情況下施作”即拔即種“

(註):

1. Ion-Ti表面比一般的噴砂酸蝕有著複雜的表面結構，更適合骨細胞附著與骨整合的達成。
2. Ion-Ti的處理更可產生近奈米等級的細孔，比一般噴砂酸蝕有更立體的3D結構。
3. 齒頸部S.L.處理，更適合軟硬組織生長。

◊愛迪植體→採用整支植體噴砂後，頸部以下Ion-Ti雙重表面處理，能減緩感染破壞，進而減少植體周圍炎的發生。